氧化銦錫光電應用納米級分散機

ITO導電漿料納米均質(zhì)機，ito納米均質(zhì)機,是在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液）

ito ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜，通常有兩個(gè)性能指標:電阻率和透光率作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導電性和透明性，可以切斷對人體有害的電子輻射、紫外線(xiàn)及遠紅外線(xiàn)。因此，銦錫氧化物通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上，用作透明導電薄膜，同時(shí)減少對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。

在氧化物導電膜中，以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過(guò)率zui高和導電性能*，而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形，其中透光率達90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來(lái)控制，通常SnO2:In2O3=1:9。因為氧化錫之厚度超過(guò)200-時(shí)，通常透明度已不夠好---雖然導電性能很好

對導電漿料的要求，第yi是分散均勻性，如果漿料分散不均，有嚴重的團聚現象，電池的電化學(xué)性能受到影響，如若導電劑分布不均勻，電極在充放電過(guò)程中，各處電導率不同會(huì )發(fā)生不同的電化學(xué)反應，負極處可能產(chǎn)生較復雜的  SEI膜，可逆容量減小，并伴有局部的過(guò)充過(guò)放現象或有可能會(huì )有鋰金屬析出，形成安全隱患;粘結劑分布不均，顆粒之間、顆粒與集流體之間粘結力出現過(guò)大過(guò)小的情況，過(guò)小部位電極內阻大，甚至會(huì )掉料，zui終影響整個(gè)電池容量的發(fā)揮。第二，漿料需要具有良好的沉降穩定性和流變特性，滿(mǎn)足極片涂布工藝的要求，并得到厚度均一的涂層，要求電池極片眾心的厚度要和邊緣處的厚度盡量保持一致，這是導電漿料涂布工藝的難點(diǎn)。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線(xiàn)式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

氧化銦錫光電應用納米級分散機